精密熱板 光刻膠烤膠臺 堅膜烘膠臺光刻膠在曝光完成后，光刻膠需要經過再一次烘烤，因為這次烘烤在曝光后，所以稱為“曝光后烘烤”，簡稱后烘或堅膜，英文為Post Exposure Bake（PEB）。

精密高溫熱板，掩膜版加熱臺采用高性能電熱管加熱，升溫快，熱效率高，使用壽命更長，維護簡單；

高精度數顯恒溫加熱臺光刻光刻工藝中需要烘烤的步驟有：預烘培和底漆涂敷、軟烘烤、曝光后烘烤、硬烘烤

充氮恒溫熱板，氮氣高溫加熱臺應用于精密電子元件、PI、BCB膠高溫固化烘烤、銀膠固化、掩膜版烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、LED、PCB板、ITO玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業.

半導體光刻膠烤膠機，基片烘膠臺定制支撐pin材料 邊緣支撐pin N2吹掃，無氧化烘烤 烘焙距離可調模組 真空腔體 智能型控制系統

高精度晶圓熱板，恒溫加熱臺用于固化光刻膠、晶圓烘烤、光刻工藝軟烘（前烘）、硬烘（堅膜）、掩膜版烘烤、柔性電路板烘烤、固化環氧塑脂等，可用于顯微鏡下使用以及其它需要高精度控溫的場合等。 適應于半導體硅片，載玻片，晶片，基片，ITO導電玻璃等工藝，制版的表面涂覆后，薄膜烘干，固化，電路模塊的涂敷燒結和考核。熱板溫度穩定度高，重復性好。可在工礦企業、科研、教育等單位作生產、科研、教學之用。

精密烤膠機，高精度烘膠臺是我司針對研究的需要設計了一種溫度控制精度高,板面溫度均勻性好,成本低的電加熱板,用于光刻膠的烘干.