前烘潔凈烘箱，半導體工藝烤箱，用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤，強制送風循環方式。

半導體光刻烤箱晶圓涂膠烤箱、光刻涂膠用烘箱是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備。箱內空氣封閉自循環。經耐高溫高效空氣過濾器過濾，使烘箱工作室內處于無塵狀態。

半導體工藝潔凈烘箱，百級無塵烘箱具有*設計的強鼓風循環系統確保了溫度的穩定性，高效循環過濾系統確保箱內的潔凈度,控溫裝置采用 PID 數顯控溫（可選觸摸屏等），直觀醒目，設有可靠性保護裝置。

HMDS烘箱，半導體工藝HMDS設備有可自動吸取添加HMDS功能，智能型的程式設定，一鍵完成作業。它成功地將硅片表面由親水變為疏水，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯劑的作用。

RTP快速退火爐，快速熱處理設備（RTP）簡介 快速熱處理設備（RTP）可用于砷化鎵、硅以及其他半導體材料，離子注入后的退火、硅化物的形成、歐姆接觸制備以及快速氧化、快速氮化等方面。RTP快速退火爐，快速熱處理設備（RTP）具有快速升降溫、慢速升降溫、和長工作時間穩定等特點。也可用于各種半導體材料的CVD工藝的熱處理。

等離子去膠機，等離子表面處理機采用國內*射頻源，其電磁兼容性能優良、高頻輻射小，符合國家環保規定。本機外形美觀大方，操作簡便。等離子去膠機，半導體工藝表面處理機適于對基片進行去膠、清洗等工藝。該設備具有去膠工藝簡單、可靠、*、速率快、成品率高、處 理后無酸氣廢水等殘留等特點。

等離子清洗機,等離子表面處理儀是一種表面處理設備， 用氣體作為處理介質，它是利用能量轉換技術以電能將氣體轉換為化學反應性和活性很高的氣體等離子體，等離子體對固體樣品表面進行相互作用，引起分子結構改變，從而對樣品表面的有機污染物進行超清洗和使樣品表面改性，以獲得希望的表面特性。