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產(chǎn)品展示您的位置：網(wǎng)站首頁 > 產(chǎn)品展示 > 半導(dǎo)體烘烤設(shè)備 >: 后曝光氮?dú)夂嫦洌琍EB無塵烘箱
后曝光氮?dú)夂嫦洌琍EB無塵烘箱所使用的高溫（100-130°C）會(huì)使光敏化合物擴(kuò)散，從而消除駐波波紋.百級(jí)潔凈度無塵化，專用于半導(dǎo)體，集成電路。

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外延片烘箱，氮?dú)鉂崈艉嫦溲悠瑢⑺鐾庋悠湃牒嫦渲?在120℃～140℃的溫度下,將所述外延片烘烤10～30分鐘

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