hmds真空鍍膜機，光刻hmds鍍膜烤箱

hmds真空鍍膜機，光刻hmds鍍膜烤箱的用途：
hmds真空鍍膜機通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。

hmds真空鍍膜機，光刻hmds鍍膜烤箱的特點：

1、安全性高、更加環(huán)保，HMDS是有毒化學藥品，人吸入后會出現反胃、嘔吐、腹痛、刺激、呼吸道等，由于整個過程是在密閉的環(huán)境下完成的，所以不會有人接觸到藥液及其蒸汽，也就更加安全，它的尾氣是直接由機械泵抽到尾氣處理機，所以也不會對環(huán)境造成污染。 

2、效率高，液態(tài)涂布是單片操作，而本系統一次可以處理多達8盒（4寸）的晶片

3、預處理性能好，由于是在經過數次的氮氣置換再進行的HMDS處理，所以不會有塵埃的干擾，再者，由于該系統是將"去水烘烤"和HMDS處理放在同一道工藝，同一個容器中進行，晶片在容器里先經過100℃-160℃的去水烘烤，再接著進行HMDS處理，不需要從容器里傳出，而接觸到大氣，晶片吸收水分子的機會大大降低，所以有著更好的處理效果。

4、均勻性好，由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液態(tài)涂布不可比擬更好的均勻性。

5、更加智能化，智能型的程式設定，一鍵完成作業(yè)。HMDS氣體密閉式自動吸取添加設計，真空箱密封性能佳，確保HMDS氣體無外漏顧慮。當HMDS液位過低時發(fā)出報警提示。

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