可程式HMDS真空 烘箱 HMDS真 空烘箱 用于光刻膠粘合的 HMDS 氣相沉積 晶圓基底脫水烘烤

掩膜版HMDS真空烘箱 hmds烤箱使基底表面由親水性變為疏水性，增強表面的黏附性（HMDS-六甲基二硅胺烷）。適用于硅片、麟化銦、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料。

桌上型HMDS烘箱，小型HMDS真空烤箱采用HMDS涂布方法改變晶圓表面的親水性，從而增大晶圓表面的接觸角），增強光刻膠和晶圓的粘附力。

碳化硅HMDS烘箱，SiC襯底HMDS烤箱將HMDS氣相沉積至半導體制造中氮化鎵（GaN）和、碳化硅（SiC）、硅片、砷化鎵等材料表面后，經系統加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯劑的作用

HMDS烘箱真空泵，IDP10無油泵泵具有密封設計，電機和軸承與真空環路全隔離，延長了軸承的使用壽命，并提供潔凈、無油的真空條件。IDP 泵采用單面渦旋設計，可通過簡單的工具在 15 分鐘內完成維護操作。可選的集成式隔離閥防止意外污染，并且不會額外增加泵的高度。

HMDS 烘箱是將HMDS蒸汽通過干燥的真空腔內加熱到(120-150°C)，在襯底表面上HMDS作為單層膜進行化學結合。

HMDS烤箱，HMDS真空烘箱將HMDS氣相沉積至半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后，經系統加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。