納米陶瓷材料表面疏水HMDS處理系統(tǒng)生產(chǎn)工藝周期短，提高生產(chǎn)效率； 修飾液用量極少，節(jié)約成本90%； 閉環(huán)的工藝過程，安全系數(shù)高。

HMDS真空系統(tǒng) HMDS預(yù)處理系統(tǒng) 圖像反轉(zhuǎn)烘箱可快速、均勻、經(jīng)濟(jì)高效地用六甲基二硅烷 (HMDS) 對晶圓表面進(jìn)行底漆處理，從而改善光刻膠的附著力。

HMDS烘箱 圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) HMDS涂膠機(jī)使用HMDS（六甲基二硅氮烷）對晶圓表面進(jìn)行快速、均勻、經(jīng)濟(jì)高效的涂布，以提高光刻膠的附著力。這些多功能系統(tǒng)還支持圖像反轉(zhuǎn)，形成具有與正光刻膠相同的分辨率和易用性的負(fù)圖像。

HMDS疏水烘箱，HMD真空烘箱是涂膠前對硅片表面進(jìn)行處理，可以增加硅片表面水分子的接觸角，使襯底表面從親水性轉(zhuǎn)化為疏水性

HMDS烘箱，太陽能電池片HMDS烘箱適用行業(yè)：MEMS、太陽能、電池片、濾波、放大、功率等器件，晶圓、玻璃、貴金屬，SiC(碳化硅)、GaN(氮化鎵)、ZnO（氧化鋅）、GaO（氧化鎵）、金剛石等第三代半導(dǎo)體材料。

六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設(shè)備的作用是勻膠前襯底“增附”處理。在光刻中，通常會用到一些例如藍(lán)寶石、氮化鎵、砷化鎵甚至是貴金屬薄膜等襯底，這類襯底與光刻膠的粘附性往往不怎么理想，這會導(dǎo)致后續(xù)的光刻顯影環(huán)節(jié)出現(xiàn)“裂紋”甚至是漂膠等問題。因此必須通過工藝手段改善，這個步驟我們叫做增附處理或者叫做助黏。

HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )是將“去水烘烤“和HMDS處理放在同一道工藝，同一個容器中進(jìn)行，晶片在箱內(nèi)先經(jīng)過100℃-200℃的去水烘烤，再進(jìn)行HMDS處理，不需要從箱內(nèi)傳出，而接觸到空氣，晶片吸收水分子的機(jī)會大大降低，所以有更好的處理效果。