抗黏劑蒸鍍機 抗粘劑涂膠機 硅烷氣相鍍膜機通過精確控制烘箱溫度（100-200℃）、處理時長及保持時間等參數，使氮烷（HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三氯硅烷）沉積在襯底表面，生成疏水性的保護層，，將親水基片轉化為疏水性。該過程有效增大處理后的基片接觸角，減少光刻膠使用量約30%，同時提升膠層與基片的黏附強度?。

抗粘劑蒸鍍機 硅烷鍍膜機 氣相沉積系統 硅烷偶聯劑（HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三濾硅烷等）作為一類重要的有機硅化合物，在材料表面改性、復合材料增強、涂層制備等眾多領域有著廣泛應用。

智能型HMDS涂膠機，自動HMDS涂膠鍍膜機也稱為HMDS處理，是用于使晶片表面呈疏水性的處理。

HMDS涂膠機，智能型HMDS涂 膠機將HMDS涂到半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后，經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯劑的作用。

光刻工藝HMDS鍍膜機，MOS器件HMDS鍍膜 機涂布工藝是改善晶圓表面接觸角的關鍵步驟。

抗粘劑蒸鍍機，抗粘層鍍膜機在基片與彈性支撐層之間還形成有抗黏層，抗黏層一般由全氟辛基三氯硅烷或全氟癸基三氯硅烷形成。

HMDS涂布機，HMDS涂膠烤箱用于光刻工藝中基板疏水化處理， HMDS 涂布的原理，較常用的黏附劑是六甲基二硅胺烷（HMDS）。在提升光刻膠的黏附性工藝中，實際上六甲基二硅烷并不是作為粘結劑所產生作用的，而是HMDS 改變了 SiO2 的界面結構，從而使晶圓的性質由親水性表面轉變為疏水性表面。